金属含量测定仪

我公司销售产品包括X射线荧光光谱仪（含能量色散和波长色散型）（XRF）、电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP）、原子荧光光谱仪（AFS）、原子吸收分光光度计（AAS）、光电直读光谱仪（OES）、气相色谱仪（GC）、液相色谱仪（LC）、能谱仪（EDS）、频红外碳硫分析仪（CS Analyzer）、矿浆载流在线采样仪（OSA）等。产品主要应用领域有电子电器、五金塑胶、珠宝首饰（贵金属及镀层检测等）、玩具安全（EN71-3等）,F963中规定的有害物质：铅Pb、砷Ａs、锑Sb、钡Ｂa、镉Cd、铬Cr、Ｈg、硒Se以及氯等卤族元素、建材（水泥、玻璃、陶瓷等）、合金（铜合金、铝合金、镁合金等）、冶金（钢铁、稀土、钼精矿、其它黑色及有色金属等）、地质采矿（各种矿石品位检测设备）、塑料（无卤测试等）、石油化工、岭土、煤炭、食品、空气、水质、土壤、、商品检验、质量检验、人体微量元素检验等等。总之销售的仪器设备应用于元素分析，化合物测试，电镀镀层厚度检测。

检测钢铁元素成分含量（含各种合金，不锈钢等），简单方便的是X荧光光谱仪，精度更高稳定性更好的是实验室使用的专业测试钢材成分设备的是OES光电直读光谱仪，介绍如下：

金属含量测定仪

仪器介绍：

手持式仪器简介：

合金分析仪技术规格

直读光谱仪简介：

应用领域

冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

可检测基体

铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

主要技术参数

v探 测 器：性能CMOS阵列/CCD阵列

v光源类型：数字光源，能预燃技术（HEPS）

v放电频率：100-1000Hz

v放电电流：大500A

v工作电源：AC220V 50/60Hz 1000W

v检测时间：依据样品类型而定，一般20S左右

v电极类型：钨材喷射电极

v分析间隙：4mm

v其他功能：真空，温度，软件自动控制；压力，通讯监测

主要特点

v性能光学系统

采用精度的CMOS元件可测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量；测定结果，重复性及长期稳定性hao。

v自动光路校准

自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；

仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。

v真空防返油技术

多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空*隔离；中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。

v喷射电极技术

采用的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提激发精度；配上du特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。

v集成气路模块

气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。

v数字化激发光源

数字激发光源，采用为的等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品；可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。

v速数据采集

仪器采用性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独超速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。

v以太数据传输

计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机*外置，方便升级和更换；可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。

v预制工作曲线

备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择优测试条件。

v分析速度快

分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用短时间达到优的分析效果。

v多基体分析

光路设计采用罗兰圆结构，检测器上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析；便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素（无硬件成本）。

v软件中英文系统

仪器软件操作简单，*兼容于Windows7/8/10系统。

金属含量测定仪